Wirtschaftlichkeit von Plasmaprozessen

Plasmatechnologien.

Häufig werden vermeintlich hohe Anschaffungskosten als Gegenargument gegen die Plasmatechnik ins Feld geführt. Doch selbst Niederdruckprozesse sind bei weitem nicht so teuer, wie dies vor vielen Jahrzehnten einmal der Fall gewesen sein mag: Durch die vielseitige und zunehmende Verwendung der Vakuumtechnik nicht nur in der Halbleiterindustrie, sondern auch in vielen anderen industriellen Bereichen, ist der Preis zur Erzeugung eines Vakuums in den vergangenen Jahren nochmals deutlich gefallen. Dies betrifft sowohl die Beschaffung und Bereitstellung der Anlagen als auch – durch hohe technische Qualität und hohe Effizienz – die laufenden Kosten.

Dem finanziellen Aufwand durch Beschaffung, Installation und Betrieb einer Plasmaanlage stehen die hohen laufenden Kosten nasschemischer Verfahren entgegen. Allein schon der Verzicht auf Prozesse mit verschiedenen Bädern, bei denen neben regelmässigem Medienaustausch und -entsorgung auch hohe Kosten für die Abfallentsorgung anfallen, führt zu Einsparungen.

Hinzu kommt, dass auch nasschemische Verfahren hohe Anschaffungs- und Wartungskosten mit sich bringen können – denn oft müssen die chemischen Medien während des Gebrauchs permanent auf ihre Qualität hin überwacht werden, was eine entsprechende Wartung der Anlagentechnik und -sensorik erfordert. Dies alles führt dazu, dass die Plasmatechnik – trotz deutlich höherer anfänglicher Investitionskosten – aufgrund geringerer Betriebskosten (z. B. Entsorgungskosten für Bäder) und höherer Qualität beispielsweise bei der Beschichtung von Kontaktlinsen nasschemische Verfahren mittlerweile verdrängt hat.

Umweltaspekte und Wirtschaftlichkeit gehen Hand in Hand. Weniger Materialumsatz bei gleicher oder besserer Produktqualität bedeutet Materialersparnis und weniger Entsorgungsaufwand. Aus prozesstechnischem Blickwinkel stellen Plasmaverfahren somit Musterbeispiele für Ressourcen- und Kosteneffizienz dar. Hinzu kommt, dass ihr Anwendungspotenzial nicht auf wenige Materialsysteme beschränkt ist und für die meisten Fragestellungen zur Optimierung von Oberflächen genutzt werden kann. So stellen wir fest, dass Plasmatechnik zu fast allen Zukunftsfeldern einen Beitrag liefern wird.